亿光再控诉日亚化侵权 专利战乘胜追击

2018/10/17 10:46:19 作者: 来源:亿光
摘要:亿光电子中国大陆子公司于2017年9月28日,向深圳中级人民法院提出专利侵权诉讼,控告深圳日亚化学有限公司(日亚化)以及其经销商恒炘源侵害亿光覆晶(flip-chip)专利技术,并要求法院针对侵权产品下达禁制令以及损害赔偿。中国专利复审委员会已确认该专利有效,驳回日亚化的专利无效请求。

  亿光电子中国大陆子公司 (以下统称「亿光」) 于2017年9月28日,向深圳中级人民法院提出专利侵权诉讼,控告深圳日亚化学有限公司(日亚化)以及其经销商恒炘源侵害亿光覆晶(flip-chip)专利技术,并要求法院针对侵权产品下达禁制令以及损害赔偿。中国专利复审委员会已确认该专利有效,驳回日亚化的专利无效请求。

  亿光覆晶专利布局广泛涵盖美国、中国大陆、日本、欧洲、韩国及中国台湾等所有重要市场,且大量应用于车载、背光、照明等用途。

  回应日亚化10月16日于其网站发布新闻稿,亿光强调其拥有的COB专利仍为有效,亿光可继续主张其权利。关于东京地方法院判决乙事,亿光表示尊重,然该判决并非最终审定,双方均可上诉。

  亿光重申尊重智慧财产权之一贯立场,全力捍卫客户及股东权益,对于侵权行为必采取法律行动绝不容怠。


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